标的名称：热激光强气氛原子外延高真空生长平台
数量/单位：*台
预算金额（元）：*******.**

采购目录：*********其他真空获得及应用设备

需实现的主要功能或者目标：系统，*套，原子级外延生长拓扑和高温超导氧化物薄膜材料、制备高质量的氧化物异质结构。该系统需包含超高真空主腔、副腔和预进样室，烘烤后背底真空优于***** ****；配备激光加热功能和差分高压反射高能电子衍射仪；装配高纯度臭氧发生装置等；

具体的主要技术指标包括：
*，进样室极限真空：烘烤后优于**********，分子泵抽速***;***/*，机械泵抽速***;****/*；可同时停放**个旗型样品和**个*英寸圆形靶位；端口可接原位真空行李箱；配备可开启的透明观察窗门；
*，超高真空主腔：烘烤后优于***********，空间可容纳至少**个*英寸圆形靶位、旗型样品生长加热台、*个*千瓦红外热激光入视窗、*个脉冲激光入视窗、臭氧进气口、气体等离子体枪等;
*，旗型样品生长台:快速激光加热，加热功率大于***瓦，样品最高温度可达****℃；最高温度下可持续加热 ***;* *；控温精度：±*.*℃，最高升温速率： ***℃/*；配极速液氮降温系统，样品可降温至****以下;样品台配备四轴 *、*、*及旋转轴电机
*，靶台：共**个*英寸圆形靶位；独立配备四轴 *、*、*及公转自转旋转轴电机；配置靶材的计算机化联锁控制靶材挡板，具备联锁控制功能，且挡板机构不占用或阻挡激光光路；
*，差分高压反射高能电子衍射仪*****：高氧压条件使用；基片—靶材距离：**～*** **；
*，激光源：激发靶材；至少配置 *个* **红外激光源（可升级至*个）；和至少配置 *台脉冲激光器（可升级至*台），重复频率 ≥** **、单脉冲能量 ≥*** **；*个激光入视窗：所有激光窗口均可在不破坏真空的情况下拆卸更换及清洁。
*，高氧化源：配置高纯度臭氧发生及近距离臭氧喷嘴系统，并配备 *？等离子体源。
*，操作系统：配备电动样品台和电动靶台；靶台支持程序化*、*方向扫描；软件具备温度实时反馈、***温度控制及气压自动控制、激光安全保护等功能；

需满足的质量、服务、安全、时限等要求：同上。；同上。；同上。；同上。。