高真空磁控溅射薄膜沉积系统  成交公告
2026-07-31
辽宁/沈阳 中标结果
高真空磁控溅射薄膜沉积系统  成交公告
辽宁/沈阳-2026-07-31 00:00:00

项目编号:********

项目名称:高真空磁控溅射薄膜沉积系统(*套)

成交单位:中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

成交金额:**.*万元人民币

公告期:一个工作日

若对以上结果有异议,请在成交公告发布期满后的七个工作日内,以书面形式实名向本中心提出质疑,逾期将不再受理。

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