高真空磁控溅射薄膜沉积系统　成交公告

发布者：高海燕发布时间：**********浏览次数：**

项目编号：********

项目名称：高真空磁控溅射薄膜沉积系统（*套）

成交单位：中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

成交金额：**.*万元人民币

公告期：一个工作日

若对以上结果有异议，请在成交公告发布期满后的七个工作日内，以书面形式实名向本中心提出质疑，逾期将不再受理。

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