项目名称：压电/铁电薄膜沉积磁控溅射+磁控溅射+金属沉积系统
招标项目编号：*****************
招标范围：*.*设备采购名称：压电/铁电薄膜沉积磁控溅射，*套，只接受全新设备。 *.*设备用途：主要用于光电、传感和铁电存储领域，实现高质量压电铁电掺杂氮化铝薄膜和配套电极材料的制备。 *.*设备作业基本流程：①装片****;②预处理****;③生长****;④取片****;⑤测试。
招标机构：中招国际招标有限公司
招标人：上海芯源创新中心
开标时间：********** **:**
公示开始时间：********** **:**
评标公示截止时间：********** **:**
中标候选人名单：

候选人排名	投标商名称	制造商	制造商国别及地区
*	香港爱科美半导体有限公司	*****,***.	日本