标的名称：氮化镓金属有机化合物气相沉积设备

标的数量：*

主要功能或目标：*、要求薄膜沉积速率可达*μ*/*。 *、 要求片内膜层均匀性：*点厚度均匀性偏差小于*%。 *、可以进行蓝宝石衬底 *** 晶体生长基础工艺，***双晶衍射（***）小于**** ******，（***）小于**** ******。

需满足的要求：****不锈钢腔体、带水冷；装载量：**片*英寸；水平行星式石墨托盘，自动开关盖；极限真空度:*×********；生长室压力控制范围：*********，工艺气体最大流量：******。设计温度****℃，升温速率大于*℃/*；中频盘*式线圈感应加热。 *路有机源采用流量计压力计控制，所有气路均使用******* **级管路。含浓度计。