本项目“武汉化工区半导体新材料产业园（研发区一期）项目”位于武汉市青山区化工区内。场地北侧为化工四路，东侧为联丰大道，西侧为吴沙路。项目建成后将成为企业服务中心、科研总部中心、试验检测分析中心等功能性建筑；外用护墙采用高性能蒸压加气混凝土砌块，室内填充墙采用普通蒸压加气混凝土砌块，均采用专用砌块砂浆砌筑。女儿墙及非围护构件采用蒸压灰砂砖，采用***水泥砂浆砌筑。现施工所需，进行公开询价采购。