高真空磁控溅射仪成交结果公告
2026-03-17
湖北/武汉 中标结果
高真空磁控溅射仪成交结果公告
湖北/武汉-2026-03-17 00:00:00
湖北/武汉-2026-03-17 00:00:00
高真空磁控溅射仪成交结果公告
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项目概况
| 项目名称 | 高真空磁控溅射仪 | 项目编号 | ************** |
| 开始时间 | ********** **:** | 结束时间 | ********** **:** |
| 供应商资格要求 | 参照《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定的资格条件。 | 预算金额（元） | ******.** |
| 联系电话 | *********** | ||
成交供应商信息
| 成交供应商 | 北京泰科诺科技有限公司 | 成交金额 | ****** |
| 成交理由 | 符合需求，价格最低 | ||
采购货物信息列表
| 序号 | 货物（服务）名称 | 数量 | 计量单位 | 预算单价 | ||
|---|---|---|---|---|---|---|
| * | 高真空磁控溅射仪 | * | 台 | ****** | ||
| 技术参数 | *.真空腔室：≥Ф***×******； *.真空系统：采用分子泵与+高真空阀门，支持真空度显示，真空极限需达******级； *.设备从大气抽至******级真空度≤*****； *. 基片台尺寸：需达Φ*****，可支持不同规格基片； *. 基片台支持水冷，支持基片旋转； *. 溅射系统需配*套及以上的*英寸大小磁控溅射靶，溅射靶角度、高度可以调节以实现溅射控制 *. 支持从上到下溅射，配装挡板，装配直流流脉冲电源与射频电源，支持金属及氧化物镀膜； **.气路配有*路及其以上质量流量控制器与混气装置； **.膜厚不均匀性需≤±*%； **.整体可实现自动控制； **.配有报警及保护监测系统； | |||||
| 相关材料 | ||||||
