采购内容：双腔室高真空等离子体***设备

采购数量：*项

主要功能或目标：（*）极限真空度更高（如≤**？？ **），腔室材质与密封性更优，极大降低杂质背景（*）配备射频/***等更高能量、更稳定的高级等离子体源，功率、脉冲时序可精细调控，（*）样品台温控范围更宽、精度更高（如****℃至***℃） （*）可能配备多位置样品台或传输机构，提升实验通量和效率。 （*）预留石英晶体微天平、原位椭圆偏振仪、（*）前驱体管路和腔室材料兼容高活性、液态或固态前驱体

需满足的要求：（）可实现超导类薄膜、半导体类薄膜制备，（*）高真空**腔体 *个腔室， （*）工艺腔极限真空 ******** ******** ***;******** （*）等离子体 ****** 最大**** **自匹配电源 （*）最大基板尺寸*** ***** **** Ф*****，氧化铝均匀性***;*% （*）高精准样品加热控制 （*）前驱体 *** ********* （*）臭氧发生器***** *****