镀膜仪高真空系统由基片架装置，真空系统等组成。 一、基片架结构 *.*可以固定*片***** * *** **的基片，向下兼容，采用嵌入式结构。 *.电机驱动实现连续旋转，最大转速可达**转/分钟，通过磁流体与基片托盘连接。 *.配有二个挡板，气缸驱动，二个挡板组合使用，可遮挡范围***** * *** **。 *.腔体门板上安装有长条形观察窗，并附带挡板，通过磁流体打开与关闭。 二、真空室 *.真空室由不锈钢制成，内部尺寸至少为*****************，装有基础结构和挡板的固定装置，以及蒸发电极、真空泵、样品盘等装置。 *.*真空腔体配备两个可以完全打开的门，前门为移门，通过与直线导轨，滑块等装置连接，可使前门左右开启与关闭，后期也可以连接手套箱，在手套箱内部操作前门开关，确保整个工作环境处于氮气或惰性气体氛围中；后门旋转门，通过旋转轴实现后门的开关，开启后腔体内部完全暴露在空气中，主要的目的为维护检修，并配一个长方形观察窗，配合腔体外部照明灯，方便观察腔体内部状况。 *.腔体极限真空优于*.********，从常压到********不超过*****（充氮气保护） *.带有旁抽系统，可以在不关闭分子泵的条件下，打开腔室,进行样品及材料的更换。 *.腔体内表面预留安装金属防污挡板接口，并配备金属防污挡板。 三、真空系统 *.前级泵的抽速不低于*** ³/*。 *.主泵采用抽速≥****/*的分子泵。 *.*自动抽气控制，带安全互锁功能。 *.真空室配真空计，测量范围为大气至******。

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