*.镀膜方式：磁控溅射镀膜 *.溅射电流：最大电流不小于****，连续可调，步长***，工作过程可随时调整并实时生效 *.溅射时间：最长时间不少于*****，连续可调，步长**，工作过程可随时调整并实时生效 *.靶材直径：不小于****，支持*.*~***厚度 *.靶材配置：高纯金靶、铂靶各一片；高纯银靶、铜靶各两片 *.工作压强：******，连续可调，步长*.***，工作过程可随时调整并实时生效 *.真空泵：涡旋干泵，抽速不小于**/* *.极限真空度：不高于*** *.真空仓尺寸：不小于φ***×***** **.样品台：直径不小于****，可插入不少于**个***标准样品台，支持旋转、升降、倾斜功能，转速*******可调，倾斜角度****°可调 **.实时显示靶材使用时间、设备使用时间，实时显示工作电流和真空度

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