* *溅射源：采用低压平面磁控溅射，可溅射多种贵金属**、**、**、** 等 * *溅射电源：恒流磁控**溅射电源********,*******控制精度可达*** * 控制方式：采用触摸程序控制，具备全自动控制，一键操作，系统采用*** 架构，一体化集成界面，具备中英文操作界面 *真空腔体：***×***** *样品台：样品台φ****可升降，可同时放置**个标准样品台。 **数据处理：可用实时曲线显示溅射电流、溅射电压、靶材使用时间，真空系统使用状态等系统参数。 *真空系统：极限真空＜***，采用旋叶真空泵。 * *真空测量：全量程皮拉尼数字真空计 * 溅射参数：控制溅射时间≤****,控制精度***，采用恒压控制，工作真空***** ** 具备电流保护和真空保护功能，在电流过大、真空度较差时保证设备安全

质保期：*******年，产品的质量应符合国家相关质量标准。