2025年9月政府采购意向

2025-08-19

辽宁/大连

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2025年9月政府采购意向
辽宁/大连-2025-08-19 00:00:00

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****年*月政府采购意向

发布时间：********** **:**:**阅读量：** 次

政府采购意向公告大连理工大学****年*月政府采购意向为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔****〕**号）等有关规定，现将大连理工大学****年*月政府采购意向采购意向公开如下：序号采购项目名称采购品目采购需求概况预算金额（万元）预计采购时间备注**************期刊数据库*********互联网信息服务*************数据库****年服务费***********物理气相沉积工艺交互式系统*********其他试验仪器及装置物理气相沉积工艺交互式系统，包括磁控溅射原理机*台和磁控溅射工艺设备*台，以及正常使用所需外围条件。磁控溅射原理机应包括：晶圆传输腔、磁控溅射腔、软件控制系统、安全模块；磁控溅射腔配备真空仿真管道系统，射频电源及靶枪仿真模型；真空系统配备工业机械真空泵、皮拉尼真空规、电磁阀、放气阀；软件部分配备控制软件，可视化图形操作界面,能够模拟系统实时状态参数的显示；配有虚拟现实模块，包含自动和手动拆解功能，可还原设备外观和使用环境。磁控溅射工艺设备，主要参**********

数应满足：溅射室极限真空度：≤*×******，镀膜时工作真空度：*.******；具有*套*英寸靶位，*套*英寸靶位，靶面距样品中心的距离***********可调；可放置一个*英寸样品托，基片自转速度****转/分连续可调；加热系统温控范围为室温至***°*±*°*，连续可调；四路进气且气流量控制涵盖*******，*******，******挡位；基片可以加负偏压*****；直流电源***的*套；射频电源***的*套；自动匹配器。提供运输、安装和售后服务。*干法刻蚀工艺交互式系统*********真空应用设备干法刻蚀工艺交互式系统，包括感应耦合等离子体刻蚀原理机*台和感应耦合等离子体刻蚀工艺设备*台，以及正常使用所需外围条件。感应耦合等离子体刻蚀原理机应包括：晶圆传输腔、射频腔、软件控制系统、安全模块；反应腔配备真空仿真管道系统，射频电源仿真模型；真空系统配备工业机械真空泵、皮拉尼真空规、电磁阀、放气阀；软件部分配备控制软件，可视化图形操作界面,能够模拟系统实时状态参数的显示；配有虚拟现实模块，包含自动和手动拆解功能，可还原设备外观和使用环境。感应耦合等离子体刻蚀工艺设备，主要参数应满足：真空室尺寸不小于Φ*****×******，可放置*英寸样片*片或小尺寸散片多片；极限真空度：≤*×******，泵体具有耐腐蚀性；刻蚀不均匀性：≤±*％；刻蚀距离调节范围：********，自动调节，调节精度***；六路进气（耐腐蚀），流量控制涵盖*******，*******，******挡位；***功率*******可调，**基座功率不低于****。提供运输、安装和**********

售后服务。*化学气相沉积工艺交互式系统*********其他试验仪器及装置化学气相沉积工艺交互式系统，包括等离子体化学气相沉积原理机*台和微波等离子体化学气相沉积工艺设备*台，以及正常使用所需外围条件。等离子体化学气相沉积原理机应包括：传输平台、等离子体系统、腔室系统、软件控制系统、安全模块；配备晶圆载台仿真加热，腔室带有加热模块，加热参数可设置；真空系统配备工业机械真空泵、皮拉尼真空规、电磁阀、放气阀；软件部分配备控制软件，可视化图形操作界面，能够模拟系统实时状态参数的显示；配有虚拟现实模块，包含自动和手动拆解功能，可还原设备外观和使用环境。微波等离子体化学气相沉积工艺设备，主要参数应满足：加热系统温控范围≤****°*；频率范围：*******±****；输出功率范围：*****连续可调；有效沉积区域：≥Φ*****；配备气路≥*路；制氢机的制备纯度≥**.*****%，流量≥******/***。提供运输、安装和售后服务。**********本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

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