深圳技术大学PECVD和磁控溅射系统意向公开
2025-07-21
广东/深圳 招标采购
深圳技术大学PECVD和磁控溅射系统意向公开
广东/深圳-2025-07-21 00:00:00
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准
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深圳技术大学*****和磁控溅射系统意向公开
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深圳技术大学*****和磁控溅射系统意向公开
| 采购单位: | 深圳技术大学 |
| 项目名称: | *****和磁控溅射系统 |
| 预算金额（元）: | *,***,***.*** |
| 采购品目: | 真空应用设备 |
| 采购需求概况: | *.采购*****系统一套，主要参数如下： *.*.衬底尺寸：≥***********,≥*片； *.*.极限真空度：≤***;恢复真空时间：大气压到*.*********≤* 分钟；漏率：≤****？** ·*/* *.*.长期使用温度范围：*******℃;温度均匀性：≤±*℃; *.*等离子体辉光稳定时间：≤*.**;反射功率稳定时间：≤*.** *.*.膜厚均匀性：玻璃衬底沉积*****厚度测定，**薄膜，片内≤*% 、片间≤**%、批间≤*%,边缘***,*点测试法评估； *.*.钝化效果：正常制绒硅片，双面*型非晶硅薄膜，少子寿命≥ ******; *.*气体种类至少包含：硅烷、氢气、硼烷、磷烷、氩气、氮气； *.*稳压范围：*.***********。 *.采购磁控溅射系统一套，主要参数如下： *.*衬底尺寸：≥***********,≥*片； *.*溅射靶位：下单阴极靶位>*个，上单靶位>*个； *.*工艺腔极限真空：工艺腔极限真空：≤**？**;漏率：≤**？** **/* *.*电源：电源个数≥*个，电源功率≥***; *.*靶基距至少*******范围内可调； *.*成膜种类至少包含：***/***/***(靶材)等 *.*工艺气体供气至少包含：**、**、**/**等 |
| 联系人: | 项老师 |
| 联系电话: | ************* |
| 预计采购时间: | ******* |
| 备注: | 无 |
