设备名称：多靶位超高真空磁控溅射镀膜系统 型号：*******型 品牌：北京众谱科技 *、可实现全自动控制镀膜，整个系统使用触摸屏和***全自动控制；具有手机远程控制功能；抽真空和镀膜都有一键模式； *、利用机械泵和分子泵级连，可以实现镀膜室的极限真空度为：≤*×****** (经烘烤除气后)； *、*磁控靶：超高真空磁控靶，可满足******真空条件； *、*膜厚均匀性：保证单次镀膜均匀性优于±*%； *、*薄膜表面粗糙度：小于*纳米； *、*所有靶枪可共同折向上面的样品中心，并可实现靶轴线与样品中心距离*～****可调，程序控制调整； *、*压控仪自动调控工作压强，溅射控压时间：小于**秒； *、样品库放置样品数量：*个，可通过多工位样品库实现自动样品交接，更换样品； *、镀膜全程自动控制，输入镀膜参数，仪器自动抽真空并完成溅射过程，无需调节阀门等； **、样品大升降：可在******范围内由程序控制调整；样品小升降：可在******范围内由程序控制调整。 **、交货期：*周 **、质保期：*年

按行业标准提供服务（提供本地化安装调试及售后服务）