*.真空腔室：真空专用***不锈钢腔室镜面抛光处理 ★*.真空系统采用分子泵+机械泵，高真空气动插板阀，真空测量：一个“二低一高”真空计(量程从大气到********); *.真空极限：极限真空≤*×******;漏率：优于*×********/*(国家标准); 保压测试关机**小时后，真空度≤***; *.抽速：抽气时间大气压~********小于*****; *.基片台:容纳*片基片，每片对应三种掩膜图案，可在蒸镀时自动切换； 样品片台可旋转 ，*～**转／分可调； *.金属蒸发源及电源：配备进口日本***蒸发电源。*组金属蒸发源，有机束源炉*组，对心角度可调。配备独立挡板，温控仪精确控温电源*套； ★*.成膜不均匀性≤±*%； *.膜厚仪：*路晶振探头，多源共蒸发，膜厚精度*.**埃，可自动***调节工具因子； ★*.控制方式：***+工控机；可输入速率及终厚，***调节自动控制蒸发，可实现： *.真空单段平滑曲线； *.全图形化、动画界面； *.***集成膜厚仪数据； *.多层掩膜版全自动切换； *.高真空低真空可独立控制，自由选择，自动运行； *.漏率自动检测，保养自动提醒。 **.细节设计：抽气口加装过滤网，气路设计避免扬尘，放气阀采用可调流量电磁阀门程序控制开启大小实现放气流量可控。

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